国家大基金三期再落子 认缴3亿元增资天遂芯愿

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2026年02月17日

(原标题:国家大基金三期再落子 认缴3亿元增资天遂芯愿)

国家大基金三期再落子 认缴3亿元增资天遂芯愿
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据企查查,近日,天遂芯愿发生工商变更,注册资本由1000万元增至9.5亿元。

同时,公司新增了华芯鼎新(北京)股权投资基金(有限合伙)(简称“华芯鼎新”)、上海国投先导集成电路私募投资基金合伙企业(有限合伙)(简称“上海国投先导”)、北京芯创智造二期创业投资基金(有限合伙)(简称“芯创智造二期”)、北京屹唐元创股权投资基金合伙企业(有限合伙)(简称“屹唐元创”)等股东。

股权方面,芯原股份、华芯鼎新和上海国投先导目前分别位列天遂芯愿前三大股东,分别认缴出资3.8亿元、3亿元和1.5亿元,对应的持股比例为40%、31.58%和15.79%。其中,华芯鼎新为国家大基金三期旗下投资基金之一。

据证券时报记者了解,本次增资始于去年10月芯原股份发布的一则收购计划。彼时,芯原股份在公告中表示,公司拟联合共同投资人对特殊目的公司天遂芯愿进行投资,并以天遂芯愿为收购主体收购逐点半导体(上海)股份有限公司(简称“逐点半导体”)的控制权。

公告显示,芯原股份已于2025年10月设立收购主体天遂芯愿。天遂芯愿预计将以不超过9.5亿元现金作为交易对价加上交易费用等相关费用收购逐点半导体100%股份。在去年12月的收购进展公告中,华芯鼎新、上海国投先导、屹唐元创等已被确认为共同投资人。

逐点半导体于2004年在上海成立,专注于移动设备视觉处理芯片、视频转码芯片和3LCD投影仪主控芯片及实施方案的开发和设计。公司已成为全球领先的3LCD投影仪主控芯片(SOC)厂商,市场份额超过80%。

除了本次增资天遂芯愿,近半年以来,国家大基金三期频频出手,通过华芯鼎新和旗下另一家投资基金国投集新已陆续投资了安捷利美维、南通晶体、长飞石英、拓荆键科等多家半导体产业链厂商。

例如,2025年9月,拓荆科技发布公告称,国家大基金三期旗下投资基金国投集新拟以不超过4.5亿元认缴拓荆键科新增注册资本192.1574万元。拓荆键科主要聚焦应用于三维集成领域先进键合设备(包括混合键合、熔融键合设备)及配套使用的量检测设备(统称“三维集成设备”)的研发与产业化应用。

再如,2025年12月,安捷利美维变更了股东及出资信息,新增国投集新及国新发展等为股东。目前,国投集新为安捷利美维第五大股东,持股比例为8.85%,认缴出资额4.75亿元。安捷利美维专注于载板、类载板、高阶及任意层互连HDI、软硬结合板及软板、贴片、组装及动力电池模块技术等。

对于近期国家大基金三期密集出手,TrendForce集邦咨询认为,从助力拓荆键科、长飞石英等企业到投资天遂芯愿,国家大基金三期精准地聚焦于半导体产业链的关键环节,为解决“卡脖子”问题提供了有力支撑。这些投资不仅有助于相关企业提升技术水平、扩大生产规模,更有望带动整个半导体产业链上下游的协同发展,增强我国半导体产业在全球市场的竞争力。

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CMP抛光材料市场与发展趋势分析 预计到2025年市场规模将超过100亿美元 2024年4月30日 来源:互联网 1315 86 CMP抛光材料市场规模在未来几年内将继续保持快速增长的态势。随着半导体行业的不断发展和新兴技术的不断涌现,CMP抛光材料市场将迎来更多的机遇和挑战。图片来源于网络,如有侵权,请联系删除 CMP抛光材料市场规模在未来几年内将继续保持快速增长的态势。随着半导体行业的不断发展和新兴技术的不断涌现,CMP抛光材料市场将迎来更多的机遇和挑战。 CMP抛光材料,又名化学机械抛光材料,是半导体硅片表面加工的关键技术之一。CMP抛光材料采用机械摩擦和化学腐蚀相结合的工艺,与普通的机械抛光相比,具有加工成本低、方法简单、良率高、可同时兼顾全局和局部平坦化等特点。CMP抛光材料的主要工作原理是在一定压力下及抛光液的存在下,被抛光的晶圆对抛光垫做相对运动,借助纳米磨料的机械研磨作用与各类化学试剂的化学作用之间的高度有机结合,使被抛光的晶圆表面达到高度平坦化、低表面粗糙度和低缺陷的要求。 CMP抛光材料产业链分析 CMP抛光材料行业的产业链涉及原材料供应、产品研发、生产制造、销售与服务等多个环节,各环节之间紧密相连,共同构成了完整的产业链体系。 上游原材料供应:CMP抛光材料的上游原材料主要包括抛光液、抛光垫等关键原材料的供应商。这些原材料的质量和性能直接影响到CMP抛光材料的品质和性能。因此,上游供应商的技术水平和生产能力对CMP抛光材料行业的发展具有重要影响。 中游产品研发与生产制造:中游环节是CMP抛光材料行业的核心,涉及产品的研发、生产和制造。在这一环节中,企业需要根据市场需求和技术发展趋势,不断进行技术创新和产品升级,以满足不同客户对CMP抛光材料的需求。 CMP抛光材料行业现状分析 市场规模与增长:CMP抛光材料市场近年来持续扩大,呈现出高速增长的态势。全球CMP抛光市场的年复合增长率达到10%以上,预计到2025年市场规模将超过100亿美元。其中,亚太地区,特别是中国、韩国和日本等国家和地区,成为市场的重要增长点。 竞争格局:CMP抛光材料市场具有较高的竞争程度,主要供应商包括一些国际知名企业,它们通过技术创新和高质量产品占据高端市场。同时,国内一些企业也逐渐崭露头角,成为中低端市场的主要竞争者。此外,市场上还存在一些小型供应商,它们通过专业化和定制化服务来满足特定客户的需求。 技术进步:CMP抛光材料行业的技术水平不断提高,新型CMP材料不断涌现。例如,纳米级抛光材料、环保无污染的生物基抛光材料等正在逐步取代传统抛光材料。这些新型材料具有更优异的性能和更低的成本,能够满足更高端、更精细的半导体制造需求。 行业痛点:CMP抛光材料行业面临的主要痛点包括产品质量不稳定、生产成本高、环保问题等。这些问题的解决需要技术进步和行业整合。 据中研普华产业院研究报告分析 CMP抛光材料市场规模分析 CMP(化学机械抛光)抛光材料市场规模分析显示,该市场正经历显著的增长。CMP抛光材料,特别是抛光液和抛光垫,是半导体制造过程中不可或缺的关键材料,其市场需求受到半导体行业快速发展的强劲驱动。 从全球市场规模来看,CMP抛光材料市场规模在近年来持续增长。例如,根据一些报告,全球CMP材料市场规模在2021年达到了超过30亿美金,其中抛光垫市场规模约11.3亿美金,抛光液市场规模14.3亿美金。这表明CMP抛光材料市场在全球范围内都呈现出显著的增长态势。 从中国市场来看,CMP抛光材料市场规模也在快速增长。随着国内晶圆厂不断扩产以及制程工艺的提高,对国产CMP材料的需求不断加大。2022年中国CMP抛光材料市场规模达到了46.12亿元,而预计2023年将突破50亿元,达到51.3亿元。这表明中国CMP抛光材料市场具有巨大的发展潜力。 CMP抛光材料市场还呈现出一些新的趋势。一方面,随着新兴技术的不断涌现,如5G、物联网、人工智能等,对CMP抛光材料的需求将进一步增加。另一方面,CMP抛光材料市场也在向多元化和本地化方向发展,以提高自给自足性和降低成本。 CMP抛光材料市场也面临着一些挑战。首先,市场竞争激烈,需要不断提高产品质量和技术水平,以满足客户需求。其次,原材料价格波动和供应链风险也可能对CMP抛光材料市场产生一定的影响。 CMP抛光材料行业发展相关政策 CMP抛光材料行业的发展受到国内外政策环境的影响。一方面,中国政府对半导体产业高度重视,出台各项政策并成立国家产业基金大力扶持CMP抛光材料行业的发展。例如,《新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策》和《重点...
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