扬杰科技获得实用新型专利授权:“具备栅氧保护结的平面栅SiCMOS”

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2025月06月27日
证券之星消息,根据天眼查APP数据显示扬杰科技(300373)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“具备栅氧保护结的平面栅SiCMOS”,专利申请号为CN202422072715.X,授权日为2025年6月27日。
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专利摘要:具备栅氧保护结的平面栅SiC MOS,涉及半导体技术领域。通过在器件栅极处微沟槽刻蚀形成凸台区,在凸台区的底部注入形成P?shield区,实现了对器件栅氧化层的保护并且还同时减小了P?shield区所带来的器件内阻增加。在器件阻断过程中,凸台区底部的P?shield区可以很好的屏蔽电场,避免电场在栅氧化层集中。而又因P?shield区的底面相较于P?body区处于较高位置,因此P?shield区所引起的内阻增加会较小,不会过多影响器件的性能。
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今年以来扬杰科技新获得专利授权59个,较去年同期增加了34.09%。结合公司2024年年报财务数据,2024年公司在研发方面投入了4.23亿元,同比增19%。
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通过天眼查大数据分析,扬州扬杰电子科技股份有限公司共对外投资了29家企业,参与招投标项目183次;财产线索方面有商标信息5条,专利信息743条,著作权信息4条;此外企业还拥有行政许可234个。
数据来源:天眼查APP
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